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鼎竑离子研磨仪GU-AI 8000抛光电容样品
发布时间：
2024-12-06
鼎竑离子研磨仪GU-AI 8000抛光电容样品
1.前言
鼎竑离子研磨仪GU-AI 8000是可获得高质量平整面的离子研磨仪。无论是截面样品制备，还是大面积平面抛光，GU-AI 8000均可以提供有效的解决方案，其可制备多种材料类型样品，包括金属样品、多孔样品、脆性样品等，可为SEM形貌观察分析、EDS、WDS、EBSD等微区分析的样品做前制备，适用于电子电器行业、新能源行业、汽车行业、地质行业等。在电子领域，常常需要观察某些电容的内部构造，但常用的机械处理办法又无法达到要求，而鼎竑离子研磨仪GU-AI 8000通过对电容的离子抛光可以完美解决这个问题。
本文使用鼎竑离子研磨仪GU-AI 8000对一种电容进行抛光，使其拥有一个光洁的表面以便于电镜观察。该样品如图1，是微小电容使用树脂镶嵌，想观察红圈内金属的形貌和镀层，制作的难度在于电容与树脂的硬度有差别，使用传统的机械磨抛方法会留下应力层，或是有划痕去除不掉的问题，达不到电镜观察的要求，而离子抛光可以将机械磨抛留下的应力层去除掉，使样品表面更加光洁，因此在机械磨抛后需要进行离子抛光。
图1 样品初始图
图2 鼎竑离子研磨仪GU-AI 8000
2.仪器抛光参数
电压：6.0kv
电流：0.4A
抛光时间：40mins
倾斜角度：3°
离子枪角度：90°
温度：-30℃
3. 样品前处理
将样品使用自动磨抛机研磨抛光后上光镜和电镜观察。如图3，机械磨抛处理过后可以看出样品表面还有部分划痕无法去除干净，并且样品表面有些污染，接下来需要使用离子抛光将以上问题解决。
图3 机械磨抛后的样品观察图
4. 结果与讨论
图4 样品经离子抛光后的电镜观察图
在图4电镜图中，可以观察到平整的样品截面，镀层和基底材料的分界线清晰可见，从而能够有效地对镀层厚度进行测量。经过离子抛光前后观察图片的对比，充分证明了离子抛光的重要性。
5. 结论
本文利用鼎竑离子研磨仪GU-AI 8000对电容上的金属材料进行了离子抛光。该仪器方法参数良好，可以高效完成对此类样品的离子抛光，有效去除机械磨抛留下的应力层，获得高质量观察截面，从而更好地进行观察和测量。同时改良方法参数也可对其他材料的样品进行离子抛光处理。
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