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解锁芯片样品观察新体验 —— 鼎竑 GU-AI8000 离子研磨仪助力芯片及其附着物精准抛光
发布时间：
2025-10-14
1.前言
鼎竑离子研磨仪GU-AI8000是可获得高质量平整面的离子研磨仪。无论是截面样品制备，还是大面积平面抛光，GU-AI8000均可以提供有效的解决方案，其可制备多种材料类型样品，包括金属样品、多孔样品、脆性样品等，可为SEM形貌观察分析、EDS、WDS、EBSD等微区分析的样品做前制备，适用于电子电器行业、新能源行业、汽车行业、地质行业等。芯片样品经过机械磨抛往往在电镜下表现的不够平整，影响细节观察，因此在机械磨抛后需要经过离子抛光处理来解决这个问题。
鼎竑离子研磨仪GU-AI8000
本文使用鼎竑离子研磨仪GU-AI8000对芯片样品进行离子抛光，使其拥有一个平整且真实的表面以便于电镜观察各点位细节，鼎竑离子研磨仪GU-AI8000如图。
电流：0.4mA
时间：30mins
温度：-30℃
摆动角度：90°
图1 样品初始图
芯片及其附着物离子抛光如图2：
图2 芯片及其附着物离子抛光电镜图
在样品电镜图中，可以清晰观察到平整的芯片及其附着物平面，达到了良好的制样观察效果。
本文利用鼎竑离子研磨仪GU-AI8000对芯片及其附着物样品进行了离子抛光。该仪器方法参数良好，可以高效完成对此类样品的离子抛光，使其整个平面平整且真实从而可以良好的观察。同时改良方法参数也可对其他材料的样品进行离子抛光。
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