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GU-AI 8000 离子研磨仪


GU-AI系列离子加工仪器具有独特的无磁聚集离子束设计,实现高效的大面积样品加工,并可将样品表面的损伤层或变形层降至低,获得样品内部真实的结构信息。 GU-AI8000是可获得高质量平整面的离子研磨仪。无论是截面样品制备,亦或是大面积平面抛光,GU-AI8000均可以提供有效的解决方案,其可制备多种材料类型样品,包括金属样品、多孔样品、脆性样品、复合材料样品.…适用于电子电器行业、新能源行业、汽车行业、地质行业等。


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详情介绍


产品特点及参数

  1. 卓越的仪器性能:独特的高强度无磁聚集离子束、高性能的双置内泵和快速降温半导体制冷使仪器性能大幅度提升;
  2. 出色的操作简便性:所有参数都可通过全中文显示屏直接设置;可个性化设置的参数库;多端操控、远程控制;
  3. 优越的扩展性:丰富的样品夹具、光学系统使仪器充分满足各种要求。

参数特点

截面切割

平面抛光

离子源

双离子源,安装角度90°、180°,可选配三把离子枪

离子束能量

0-10KeV

离子枪与样品加工面夹角

0-180°

3°、6°或9°

加工速率

≤300μm/h,Si

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可容样品尺寸

≤25X12X5.5mm

≤25X25X20mm

挡板材质

钼或钛

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真空泵

隔膜泵+涡轮分子泵(无需冷却水)

抽气速率

大气到工作状态不高于3min

制冷

半导体制冷-25℃

工作气体

氩、氦、氧、氙

保护功能

过流、真空双保护

控制系统

基于开源操作系统自主开发,具有完全知识产权


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